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Compare
Max. Messabweichung
Volumenfluss (Standard): ±0,5 % v.M. ± 1 mm/s (0,04 in/s) Volumenfluss (Option): ±0,2 % v.M. ± 2 mm/s (0,08 in/s), Flat Spec
Messbereich
4 dm³/min...9600 m³/h (1...44 000 gal/min)
Messstofftemperaturbereich
Messrohrauskleidung PFA: –20...+150 °C (–4...+302 °F) Messrohrauskleidung PFA Hochtemperatur: –20...+180 °C (–4...+356 °F) Messrohrauskleidung PTFE: –40...+130 °C (–40...+266 °F)
Max. Prozessdruck
PN 40, Class 300, 20K
Messstoffberührende Materialien
Messrohrauskleidung: PFA; PTFE Elektroden: 1.4435 (F316L); Alloy C22, 2.4602 (UNS N06022); Tantal; Platin; Titan
J22 TDLAS-Gasanalysegerät
Bewährte Technologie für die genaue und zuverlässige Messung von H2 O in Erdgas, Biomethan (RNG), Kohlendioxid (CCUS) und Wasserstoff
Messgrößen
Konzentration Taupunkt Küvettendruck Küvettentemperatur
Ex-Zulassungen
ATEX / IECEx /UKEx Zone 1 PESO / KTL / CML Zone 1 INMETRO Zone 1 CSA Class I, Division 1 CSA Class I, Zone 1
JT33 TDLAS-Gasanalysator
Nicht verfügbar
Zuverlässige H2 S-Messung für höhere Qualität, bessere Prozesssteuerung und Anlagenintegrität
Analyt und Messbereiche
H2S (Schwefelwasserstoff): 0...10 ppmv 0...500 ppmv andere Bereiche auf Anfrage
Ex-Zulassungen
ATEX/IECEx/UKEx Zone 1 CSA Class I, Division 1 CSA Class I, Zone 1
Messbereich
Spur: 0 bis 5 mg/l ClO2 Standard: 0 bis 20 mg/l ClO2 Hoch: 0 bis 200 mg/l ClO2
Prozesstemperatur
0 … 55 °C, nicht-gefrierend (32 ... 130 °F)
Prozessdruck
Max. 2 bar abs (Max. 29 psi abs)
Messbereich
Spurensensor: 0 ... 5 mg/l HOCl Standardsensor: 0 ... 20 mg/l HOCl Sensor für hohe Konzentrationen: 0 ... 200 mg/l HOCl
Prozesstemperatur
0 ... 55 °C (32 ... 130 °F), nicht gefrierend
Prozessdruck
Max. 1 bar (max. 14.5 psi)
Messverfahren
- Geschlossene, membranbedeckte Messzelle - Reduktion von freiem Chlor an der Kathode
Messbereich
0 ... 5 mg/l Gesamtchlor oder 0 ... 20 mg/l Gesamtchlor
Prozesstemperatur
+0 ... 55 °C (32 ... 130 °F), nicht gefrierend
Prozessdruck
1 bar relativ (14,5 psi relati) Max. 2 bar (max. 29 psi)
Messverfahren
Gesamtchlor besteht aus freiem Chlor (HOCl, OCl-) und gebundenem Chlor (Chloramine) - alle Komponenten werden an der Arbeitselektrode reduziert - nur sehr leicht pH abhängig
Messbereich
Spurensensor: 0 - 5 mg/l HOBr Standardsensor: 0 - 20 mg/l HOBr Sensor für hohe Konzentrationen: 0 - 200 mg/l HOBr
Prozesstemperatur
+0 - 55 °C (32 - 130 °F), nicht gefrierend
Prozessdruck
Max. 1 bar (max. 14.5 psi)
Messbereich
0 ... 2 mg/l
Prozesstemperatur
+0 ... 45 °C (32 ... 110 °F), nicht gefrierend
Prozessdruck
1 bar (14.5 psi) relativ, 2 bar (29 psi) absolut
Messverfahren
- geschlossenes 2 Elektrodensystem - Elektrochemische Umsetzung von Ozon zu einem Signalstrom in nA - Signalstrom ist proportional zur Konzentration von Ozon - die Messung ist nicht pH abhängig
Messbereich
L: 0 ... 100 a: -150 ... 100 b: -100 ... 150
Prozesstemperatur
-20 … 60 °C (-4 … 140 °F) 60 … 140 °C (140 … 284 °F) mit Wasserkühlung
Prozessdruck
0,5 … 10 bar (7,3 … 145 psi) (absolut)
Genauigkeit
+/-1 mm
Prozesstemperatur
-40 … +200 °C
Prozessdruck / max. Überlastdruck
Vakuum…20 bar
Max. Messdistanz
50 m
Prozessseitige Hauptmaterialien
PVDF, PTFE oder PEEK
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